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  • 定向CVD生長爐產品型號 OTF-1200X-50-DSL 產品簡介 OTF-1200X-50-DSL是一款水平滑軌爐,其爐管直徑為Φ50mm,爐體滑動速度可以根據實驗需要而設置(1mm/sec-100mm/s),并可以設置左右反復滑動,同時還可以設置爐體的滑動距離。此款管式爐專門設計用CVD方法定向生長單壁碳納米管(SWCNTs)。通時此款滑軌爐也可用來在硅片上生長熔點較低的金屬單晶。此系統包含了可設30段程序的高溫爐、一根Φ50*1000mm的石英管和一套不銹鋼真空法蘭。
  • KSL-1200X-H2是一款通過CE認證和TUV/UL認證的箱式爐,此款箱式爐設計專針對在氫氣環境下進行熱處理,*高溫度可達1200℃。爐腔內設計為5面加熱,使得爐膛內部溫場更加均勻,以Kathal公司的Fe-Cr-Al 合金為加熱元件。爐膛尺寸為400×400×400mm,爐門帶有真空密封設計,設計有水冷卻管,以保護密封圈。爐頂安裝有氫氣自動點火裝置。此款箱式爐特別適合于制作需在還原氣氛下熱處理的材料,如熒光粉和鈦合金等。同時也可在惰性氣氛或氧氣環境下對材料進行熱處理。
  • 滑動式RTP快速退火爐是一款能夠快速升溫和降溫的管式爐,其通過紅外燈管加熱達到快速升溫的效果(*大升溫速率> 50°C/S),通過爐體滑動來達到快速冷卻效果(*大降溫速率>10°C/S)。
  • 小型PECVD管式爐系統(等離子體氣相沉積)管式爐系統。此套設備帶有500W的等離子射頻電源,一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐(帶有真空法蘭和連接管道)和一個直聯式雙旋機械泵。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD系統。對于有限的經費的情況下來進行材料探索,此套系統極為理想。
  • 雙爐體滑動PECVD系統是一款雙爐體滑動的PECVD系統,并且連接有循環手套箱。此款設備中石英爐管與一循環手套箱相連接,允許客戶用CVD方法把樣品制作好以后,直接把樣品移入到氣氛保護環境下的手套箱中。爐體采用滑動式,可在室驗中對樣品進行快速加熱和快速冷卻。此款儀器特別適合新一代納米材料和二維晶體材料的探索研究。
  • 1000℃小型開啟式管式爐是一款小型開啟式管式爐,其*高工作溫度可達到1000℃,爐管可以選用直徑為100mm或130mm的石英管,并且可配一套不銹鋼密封法蘭(上面安裝有不銹鋼截止閥和通氣接口),可在真空或氣氛保護環境下對樣品進行熱處理??刂葡到y與爐體分開,可設置30段升降溫程序,控溫精度為+/- 1℃。
  • 1200℃三溫區滑軌爐是一款CE認證的三溫區可滑動管式爐,配置dia80x94” 石英管和法蘭,工作溫度*高達1200°C。爐底安裝一對滑軌,可用手動滑動。加熱和冷卻速率*大可達100°C/min。為取得*快加熱,可以預先加熱爐子到設定的溫度,然后移動爐子到樣品位置。為獲得*快冷卻,可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環境下可以達到10°C/s,是低成本快速熱處理的理想爐子。
  • 可移動型1200℃管式爐是一款坩堝可爐管內移動(靠步進電機控制)的小型開啟式管式爐。爐管直徑為50mm,設備*高工作溫度為1200℃。 設備特點:坩堝通過一步進電機控制爐管,按照設定程序移動,同時坩堝后端安裝一熱電偶(隨坩堝儀器移動),可實時監測樣品的溫度,意味著可通過移動坩堝的位置,在爐體中準確找到實驗所需要的溫度,使得實驗準確度更高,重復性更強。此款設備可用于多種實驗,比如HPCVD(hybrid physical chemical deposition),快速熱蒸發,也可用于水平布里奇曼(Bridgman)法來長晶體。
  • 小型雙爐體滑動管式爐是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器*高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現對原材料的蒸發/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現對樣品快速加熱,*大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質量流量計(MFC)控制的供氣系統和等離子射頻電源來搭建TCVD系統。
  • OTF-1200X-4-SF是一款爐管尺寸為100mm,帶有滑軌法蘭的管式爐,*高工作溫度為1200℃,此款管式爐專為客戶自己搭建CVD系統而設計。
  • OTF-1500X-VHP4是一款真空熱壓機,可對材料在真空(或氣氛保護)及高溫的環境下進行加壓,如把粉末壓成塊狀,或將多層晶片壓合在一起(擴散實驗)。此款儀器*高溫度可達到1500℃,在此溫度下可對樣品施加的壓力為5T。儀器爐體設計為開啟式,爐管采用美國進口的莫來石管,模具為石墨模具,加壓裝置為一20T的電動壓機。爐子*高溫度可以達到1500℃,可設置30段升降溫程序。
  • KSL-1200X-BF6一款小型網帶爐,其網帶寬度為6“(150mm)。所要熱處理的樣品放在網帶上,網帶傳送樣品連續通過7個加熱溫區。此款設備是一款中式生產設備適合于薄膜、電子元件退火,光伏電池制作以及陶瓷材料或金屬材料退火。
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