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  • GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀,可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜,樣品直徑可達50mm,鍍膜厚度可達300?,特別適用于SEM樣品的鍍膜。
  • GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。
  • GSL-1100X-SPC-16C濺射蒸鍍膜儀配備了熱蒸發附件,具有濺射和蒸發兩種功能。不但可以用等離子濺射的方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或其他金屬單質的薄膜。本機能夠滿足掃描電子顯微鏡樣品的制備和非導體材料實驗電極的制作,也可以用于材料研究中各種新材料性能的實驗。
  • VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗手。
  • VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。
  • OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發管式爐,專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD,爐管內載樣盤可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管,分別安裝在腔體的頂端和底部,其升溫速率高達20oC/S 。溫控系統為PID30段程序化控制,控溫精度為+/-1oC。儀器面板上帶有RS485接口,若儀表內配有控溫軟件,就可將升溫程序和曲線導出.
  • GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀是一款經過CE認證的緊湊型等離子鍍膜機。本機是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。它的特別之處是在一個真空室內設計安裝了三個靶。旋轉樣品臺,可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實驗室的各種復合膜樣品制備,及非導體材料實驗電極制作。
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